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TA的每日心情 | 擦汗 2023-9-11 09:14 |
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簽到天數: 536 天 [LV.9]以壇為家II - 推廣值
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表2.8-1 拟建项目废气处理装置一览表
8 F0 z2 b3 ?/ |% t" d9 h' W车间 污染源 设计风量 处理装置 活性炭装填量 排气筒
* A. H6 t( Z& }: z; q) X( }生产车间 不含氯工艺废气 20000m³/h 碱洗+RTO装置+碱洗 / P1; Q! \% w% o8 T$ n$ D& v
含氯工艺废气 5000 m³/h -15℃冷凝+活性炭吸附脱附(三吸一脱)) 1.25t/个 P2+ [5 G5 @+ n7 |+ I s3 ^6 D) c2 X
生产车间一空间换气 40000m³/h 碱洗+活性炭吸附 2.0t P3
4 A9 ~4 n$ ]2 b' M- U2 u 生产车间二空间换气 30000m³/h 碱洗+活性炭吸附 2.0t P4
- u4 g0 H% K r 生产车间一喷雾干燥粉尘 9000 m³/h 袋式除尘+水喷淋+除雾器+活性炭吸附 1.6t P5
+ [; X$ U; A/ v1 V 生产车间二喷雾干燥粉尘 9000 m³/h 袋式除尘+水喷淋 / P6
! f: G2 ^' t1 y罐区 不含氯溶剂的储罐 1000 m³/h 碱洗+水洗+RTO装置+碱洗 / P16 z6 R3 P3 U/ A( c$ ?& b
二氯甲烷储罐 5000 碱液喷淋+活性炭吸附脱附(三吸一脱) / P2
7 n4 S; u9 i; x* \危废间 储存桶、罐 1000 m³/h 水洗喷淋+UV光解+活性炭吸附 0.4t P7
5 P) A- v* J0 i污水处理站 调节池、混凝沉淀池、厌氧池、污泥池等 5000m³/h % S7 a! K8 W8 g" w
厌氧罐 -- 火炬燃烧后排放 / /6 i6 s. a7 k, u( z8 I
甲类仓库 液体有机物料 5000 碱液喷淋+活性炭吸附 1.0t P8
l8 q6 t r- o科研楼 检验室 8000m³/h 碱液喷淋+活性炭吸附 0.8t P90 T9 @1 E. l6 J1 W7 i
生产车间 干燥锥、粉碎包装粉尘等 / 设备自带袋式除尘后排入空调洁净系统 / /
4 x* z6 C6 t: q6 o( k8 q c! ]1 R本项目有组织废气处理流程图见图2.8-1。
) c7 T* E( Z0 P' {# U3、处理措施
/ O1 _' g9 E9 \) W* {/ [(1)工艺废气和溶媒回收废气:不含氯废气不凝气和不含氯的罐区废气经RTO尾气处理系统(碱洗塔+除雾器+RTO+冷却器+碱洗塔)处理后经29m排气筒(P1)排放;排气筒参数:高29m、内径0.8m,风量为1.5万m3/h。/ I; B. P% n# X* x, n
(2)含氯工艺废气和二氯甲烷储罐废气单独收集经-15℃冷凝+活性炭吸脱附(三吸一脱)处理后经29m排气筒(P2)排放。活性炭吸附罐单罐装填量为1.25t,碘值≥1050。排气筒参数:高29m、内径0.6m,风量为1.0万m3/h。
0 p# u' S; g' }! E. N7 a* V. E(3)车间低浓度有机废气经碱液喷淋+活性炭吸附处理后分别经29m排气筒(P3~P4)排放;车间一排气筒P3参数:高29m、内径0.9m,风量为4万m3/h;车间二排气筒P4参数:高29m、内径0.8m,风量为3万m3/h。活性炭吸附罐单罐装填量为2t,碘值≥1050。3 q; ?( _" t$ o8 ]; @# u' G9 U2 a/ r
(3)1#喷雾干燥塔废气经袋式除尘+水膜除尘+除雾器+活性炭处理后经29m排气筒P5排放。排气筒P5参数:高29m、内径0.5m,风量为9000m3/h。
6 R. q! s& o2 H v% C9 Q, W) }1 z2#喷雾干燥塔废气经袋式除尘+水膜除尘处理后经29m排气筒P6排放。排气筒P6参数:高29m、内径0.5m,风量为9000m3/h。
6 x6 v# X0 H9 ?. A+ z. s(4)污水处理站废气和危废库废气经水洗喷淋+UV光解+活性炭吸附处理后经29m排气筒(P7)排放;排气筒参数:高29m、内径0.4m,风量为8000m3/h。活性炭吸附罐单罐装填量为0.8t,碘值≥1050。
G) j$ J' b4 Z, f) T9 T6 w1 }(5)甲类仓库经碱液喷淋+活性炭吸附处理后经29m排气筒(P8)排放;排气筒参数:高29m、内径0.4m,风量为5000m3/h。活性炭吸附罐单罐装填量为1t,碘值≥1050。3 R8 D7 b& _4 x
(6)质检楼废气经碱液喷淋+活性炭吸附处理后经29m排气筒(P9)排放;排气筒参数:高29m、内径0.4m,风量为8000m3/h。活性炭吸附罐单罐装填量为1t,碘值≥1050。; s/ @ e. |; k/ d. U- g
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